承接去年首届专利年会，第二届中国专利信息年会于2011年9月5日至6日在北京国家会议中心举办，由国家知识产权局主办，知识产权出版社承办。为了更好的在中国专利市场领域开展商业活动，收集行业信息以及搭建与政府之间的桥梁，日立北工大也积极参加了年会。
本届年会主题是“专利信息与专利创造能力提升”，约有1000位来自国内外知识产权领域的专业权威人士、专利信息服务机构和企业相关人士参加了本次年会，并成功搭建了一个知识产权领域的国际化交流与服务平台。
在年会第一天，国家知识产权局局长田力普出席年会开幕式并致辞。在开幕式结束后，田局长更是在百忙之中，光临我公司展台，对我公司产品给予了高度评价和亲切指导，对于我们的工作做了指示，希望为中国的专利事业做出贡献。
田局亲切接见我公司的中外专利专家，他们从80年代起为中国专利局专利系统建设做出了很大的贡献。见到了老朋友（日立北工大木崎副总等数位来自日立的专家），对于他们再次来到中国，参加中国的专利建设，感到十分的欣慰。特此对这些专家们对中国事业做出的辛勤劳动表示感谢。
在参展期间，日立北工大与主办方、众参展商进行了多次交流与沟通，向参观人员介绍了日立专利检索系统（digi-patent/s）的主要功能特点和优势，并耐心回答了参观人员的问题，提高了digi-patent/s的知名度，为今后我们能更好的开展中国专利业务打下了坚实的基础。
